晶亦精微科技股份有限公司(以下简称“晶亦精微”)，作为中芯国际、联华电子等公司的化学机械抛光(CMP)设备供应商，正积极冲刺科创板。然而，就在这一关键时刻，晶亦精微却面临着五起涉及核心产品CMP设备知识产权的未决诉讼，其中有两起是被告。这些诉讼中，晶亦精微的主要竞争对手杭州众硅起诉指控晶亦精微侵权其专利权利，诉求涉及停止制造、销售相关产品、销毁库存，赔偿损失累计高达2000万元，并承担全部诉讼费用。
值得一提的是，起诉方杭州众硅由四十五所原CMP事业部负责人顾海洋创办，也是晶亦精微的国内市场主要竞争对手。这意味着诉讼案件不仅关乎双方企业的利益，还牵扯到核心技术和市场份额的竞争。
目前，涉及晶亦精微为被告的两起未决诉讼尚处于一审阶段，尚未结案。晶亦精微在其招股书中也明确指出，诉讼结果具有不确定性，可能对公司的经营和发展产生重要影响。
专利侵权案件对企业而言是严重的挑战，不仅可能导致高额的赔偿和资产损失，还可能损害企业的声誉和市场地位。面对这样的局面，晶亦精微需要全力以赴应对诉讼风险，确保核心技术的稳固，保障企业的创新发展和科创板冲刺计划。
专利侵权是知识产权保护领域的重要议题，不仅对企业发展具有重要意义，也影响到整个市场的竞争环境。专利侵权指的是未经专利权人许可，他人擅自制造、销售或者使用其专利技术。在知识产权保护的体系下，专利侵权的行为将面临法律的追究和赔偿责任。因此，企业应高度重视知识产权保护工作，建立完善的知识产权管理体系，预防和应对潜在的专利侵权风险。
圆保知识产权一直专注于知识产权保护领域，为企业提供全方位的知识产权保护和管理服务。我们的专业团队将协助企业制定科学的知识产权保护策略，识别潜在的侵权风险，并为企业提供专业的法律支持。圆保知识产权将是您实现知识产权保护和创新发展的强大后盾。
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